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全国产技术下大陆芯片制造瓶颈:专家称仅能实现28nm工艺

全国产技术下大陆芯片制造瓶颈:专家称仅能实现28nm工艺

台湾芯片专家指出,若采用纯国产供应链制造芯片,中国大陆企业仅能实现28nm工艺量产。引入国外技术设备可突破至7nm节点,预计2030年前完成14nm及7nm国产化。设备壁垒主要体现在EUV光刻机领域,国产DUV光刻机技术已接近成熟,但需配合刻蚀设备实现先进制程突破。

芯片制造国产替代半导体技术+2
谈数码过千里2026-02-05 11:13:493.8万